| 型號： | 非標(biāo)定制 | 規(guī)格： | 185nm,254nm,172nm |
| 商標(biāo)： | Tobey | 包裝： | 紙箱 |
| 產(chǎn)量： | 1000000 |
紫外線光清洗燈，UV清洗燈基本介紹
光清洗制程:
使用UV是於1980年代初將光洗凈法實(shí)用化，一直到90年代以改質(zhì)為目的被廣泛的應(yīng)用。
由UV而產(chǎn)生之氧化反應(yīng)，其效果依被處理物之種類而定分為洗凈和改質(zhì)兩大項
而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種，其波長領(lǐng)域極廣，
100mm ~400mm為紫外線放射范圍，屬於UV-C范圍，因其波長短UV能量高，其值和很多有機(jī)物之化學(xué)結(jié)合之能量值相近，易起反應(yīng)生成各種作用及效果，其中具代表的作用就是洗凈.
改質(zhì)對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果
紫外線光清洗燈，UV清洗燈性能特點(diǎn)二、紫外光清洗的特點(diǎn)：
1、是一種無接觸方式，可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。
2、可 清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。
3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。
5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。
6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。
紫外線光清洗燈，UV清洗燈技術(shù)參數(shù)| 型號 （U,H） | 管徑 （D） | 管壓 (V) | 電流 (mA) | 功率 (W) | 安裝長度 (ｍｍ) | 弧長 （ｍｍ） | 備注 |
| SVR40U | 17.5 | 95±5 | 450 | 40 | 270 | 200 | |
| SVR70U | 17.5 | 100±5 | 800 | 70 | 370 | 300 | |
| SVR90U | 17.5 | 130±5 | 800 | 90 | 530 | 455 | |
| SVR110U | 17.5 | 130±5 | 900 | 110 | 640 | 565 | |
| SVR160U | 17.5 | 150±5 | 1000-1200 | 160 | 780 | 705 | |
| SVR200U | 17.5 | 130±5 | 1200-1500 | 200 | 820 | 755 |
主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體矽晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn)，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對於改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層， 涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用於納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。 STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同，差別在於制造工藝要求的不同。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比，LCD產(chǎn)業(yè)對制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn)，才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率。
