紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈

型號(hào)：	185nm/254nm	規(guī)格：	60-1000W
商標(biāo)：	Tobey	包裝：	紙箱
產(chǎn)量：	10000

紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈基本介紹 由石英玻璃或特種石英玻璃制成，通過(guò)產(chǎn)生185nm和254nm高強(qiáng)度UV光，分解有機(jī)分子（污染物）表面達(dá)到原子級(jí)清洗。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時(shí)激發(fā)表面的有機(jī)分子，使其容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時(shí)間短并且同時(shí)也被254nm光分解，樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的離來(lái)優(yōu)化性能， 分解有機(jī)污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時(shí)也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子，UV清洗，改質(zhì)。公司提供有SEN、EYE、GS、HERAEUS等多個(gè)品牌，也可根據(jù)客戶(hù)的參數(shù)或樣燈特殊訂做。 紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈性能特點(diǎn) 紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外臭氧清洗燈、紫外光清洗燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈 紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈技術(shù)參數(shù) 用于處理ITO,FTO，光學(xué)玻璃，半導(dǎo)體，硅片，金屬，陶瓷，聚合物等基片表面的有機(jī)物
，可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性，在襯底涂層或者鍍膜，基片鍵合等方
面有廣泛應(yīng)用。 紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈使用說(shuō)明 低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接
打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受
激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（
O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反
應(yīng)過(guò)程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性
氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來(lái)越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活
化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O
，NO等）逸出物體表面，從而 清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。 紫外臭氧清洗機(jī)燈管、紫外線清洗改質(zhì)燈采購(gòu)須知

應(yīng)用領(lǐng)域

■在進(jìn)行薄膜沉積之前先進(jìn)行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。真空度密
封。

■清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽(yáng)能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片

■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器

■蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料

■增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面

■增強(qiáng)玻璃的除氣作用

■基片藍(lán)膜去除

■增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性

■基片終測(cè)后墨跡清楚

■去除光刻膠

■平板顯示器/液晶顯示器

■去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物

■在電路板封裝和打片之前清洗）

■光纖

■增強(qiáng)表面親水特性

■為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒

■光學(xué)透鏡

■其它應(yīng)用